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资讯内涵

    光学薄膜表面光洁度对光学特性的影响与背景

       光学薄膜表面的光洁度是关系到光学材料表面折射,散射等特性的,而光学薄膜表面的光洁度好坏,取决于前一道加工工序--研磨抛光,对光学材料表面的研磨抛光加工是我司最擅长的技术之一,我司专门研发的光学材料平面抛光机在国内外有着优良的口碑和稳定的客户群体。
       在光学薄膜元件中,基底表面粗糙度的大小对光学薄膜的光学特性,如折射率、表面散射,激光损伤阀值等都有十分重要的影响.此刻,国内外对于光学基底和光学薄膜表面粗糙度的研究首要有散射法、干涉法、探针法以及原子力显微镜(AFM)等.如国外采用AFM研究了不同厚度下DLC薄膜的表面粗糙度.国内采用总积分散射仪研究了二氧化锆薄膜以及光学基底的表面粗糙度.采用表面轮廓粗糙度仪研究了不同粗糙度基底以及不同厚度的TiO2薄膜表面粗糙度.而对于TiO2薄膜的表面粗糙度、特别是TiO2薄膜表面粗糙度对光学常数影响的研究此刻还未见报道.文中研究了沉积速率、不同基底表面粗糙度对TiO2薄膜表面粗糙度的影响.经过建立不同的模型采用椭偏法研究了不同模型下TiO2薄膜的光学常数以及不同基底粗糙度表面沉积的TiO2薄膜的光学常数
       平面抛光机的诞生于发展关系到光学行业整体的发展前景,所以平面抛光机的诞生是必然的,蓬勃发展也是趋势。加大研发创新力度是我司一直以来的做法,发展成行业内顶尖的平面抛光机专家也是我司持续的追求和目标
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