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资讯内涵

    陶瓷用平面研磨机的工艺参数及配置

        平面研磨机有用于很多行业,比如,光学,蓝宝石,通讯电子,陶瓷等。平面研磨机在各个行业的应用情况都会不一样,具体表现在所需的配置和工艺参数上,澳门巴黎人专注陶瓷研磨多年,具有深厚的功底和实践经验。以下是陶瓷平面研磨机的工艺参数和配置。
        本实验采用高精度数控坐标平面研磨机。该机床具有六轴三联动功能,砂轮中心线与主轴中心线之间有一个偏置轴称为U轴,砂轮围绕主轴旋转的行星轴称为 C 轴。自制聚氨酯和无纺布研磨轮,在研磨过程中用抛光轮取代砂轮。回转曲面工件研磨运动方式为: 工件被夹具夹持在自旋劳动台上,经过自旋劳动台旋转及研磨轮的自转配合 C 轴转动从而实现研磨运动过程。本实验使用的材料为北京中材人工晶体研究院生产的高性能氮化硅陶瓷,采用气氛压力烧结形成,其力学性能如表 1 所示。Si3N4陶瓷工件研磨实验装置示意图如图 1 所示。
        研磨工艺参数如下: 水基 CeO2研磨液浓度为( 5%~ 20% ) ; 抛光轮转速为 6 000 ~ 10 500 r / min; 抛光液流量为 0. 4 ~1 L/min; 研磨总时间为 4 h,粗抛为聚氨酯抛光轮,研磨时间为3 h; 精磨为无纺布研磨轮,抛光时间为1 h; 研磨过程中粗抛和精抛选用相同的工艺参数。自旋劳动台转速为 100 r/min。抛光过程中抛光轮始终与氮化硅表面之间保持一定的接触。
        实验检测设备如下: JB - 4C 精密粗糙度测试仪,测量精度达到 0. 001 μm,能实现表面粗糙度的多种参数测量,在氮化硅陶瓷回转曲面工件几个均布位置上分别测量 3 次,求其平均值作为此抛光条件下的粗糙度值。用德国莱卡( LEICA) DMI - RM 倒置金相光学显微镜,对研磨前后工件表面形貌实行观测。
        由以上陶瓷平面研磨机的配置和工艺参数大家就能更精确的了解该机器的结构和劳动原理,把握了这些大家才能在实际操纵中研磨出精度高,表面质量好的陶瓷产品来。
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