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资讯内涵

    镜面抛光机所用抛光液对表面粗超度的影响

       镜面抛光机所用抛光液的浓度是抛光加工时的关键指标之一,这关系到研磨时对工件的划伤,摩擦时产生的磨削力等。澳门巴黎人研制抛光液,制造镜面抛光机有多年的经验,精通镜面抛光机和抛光液之间的关系,以及抛光液浓度对抛光效果的各种影响。以下是抛光液浓度对抛光效果的影响剖析:
       随着 CeO2浓度的增大,氮化硅陶瓷加工表面Ra值变小,当抛光液浓度超过20% 后,Ra值增大。其原因为: 抛光液浓度较低时,抛光液中CeO2微粒不足,即没有足够的CeO2微粒参与化学反应,从而使氮化硅材料的去除率较低,表面粗糙度差; 当抛光液浓度增大时,化学机械抛光过程中参与化学反应的原料供应增加,加大了有用机械研磨作用,使局部温度升高,化学反应加速,并且生成的软质层被有用去除,从而实现了较高的去除率和加工表面质量; 抛光液的浓度进一步增大时,化学作用得到进一步的增强,但是机械作用相对不足,导致表面粗糙度值增大。
       找到影响抛光效果的关键因素之一,大家就能把握抛光效果的完美实现。
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